等離子增強化學氣相淀積系統(tǒng)(PECVD)

時間：2014-10-22作者：青島福潤德微電子設備有限公司瀏覽：81

青島福潤德微電子設備有限公司專注于鏈式爐排,全自動擴散爐,小型真空爐,加熱爐體,石棉圈,小型馬弗爐等

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  詞條說明

• LPCVD設備

  LPCVD設備維修及應用 低壓化學氣相淀積設備使用與維護技術(shù) LPCVD是大規(guī)模集成電路(LSI)和**大規(guī)模集成電路(VLSI)以及半導體光電器件工藝領域里的主要工藝之一。 PCVD技術(shù)可以提高淀積薄膜的質(zhì)量，使膜層具有均勻性好、缺陷密度低、臺階覆蓋性好等優(yōu)點，成為制備Si 3N4薄膜的主要方法。熱壁LPCVD設備使用過程中出現(xiàn)薄膜的淀積速率、薄膜的均勻性、片內(nèi)均勻性、片間均勻性不理想等問題，提

• 太陽能擴散爐

  太陽能電池擴散工藝及其設備 太陽能電池擴散工藝及其設備 ????技術(shù)方案是：一種太陽能電池擴散工藝，在太陽能電池擴散工藝中通控制抽氣排風壓力，使抽氣排風壓力這個參數(shù)保持穩(wěn)定，抽氣排風壓力這個參數(shù)保持穩(wěn)定，抽氣排風壓力的穩(wěn)定導致辭磷在硅片中的注入濃度穩(wěn)定，使加工后得到的硅片的方塊電池保持穩(wěn)定，在后道的燒結(jié)中可以匹配出高效的太陽能電池。抽氣排風壓力通過在機臺排

• 擴散爐

  擴散爐由控制系統(tǒng)、進出舟系統(tǒng)、爐體加熱系統(tǒng)和氣體控制系統(tǒng)等組成。 控制系統(tǒng) 控制部分包括：溫控器、功率部件、**溫保護部件、系統(tǒng)控制。 系統(tǒng)控制部分有四個獨立的計算機控制單元，分別控制每層爐管的推舟、爐溫及氣路部分，是擴散/氧化系統(tǒng)的控制中心。 擴散爐網(wǎng)絡控制 輔助控制系統(tǒng)，包括推舟控制裝置、保護電路、電路轉(zhuǎn)接控制、三相電源指示燈、照明、凈化及抽風開關等。 較**的擴散爐控制系統(tǒng)均已較新或升級到微

• 石英領

  ?石英軟領為進口石英纖維棉采用德國加工工藝制成，用于擴散爐和PECVD設備中爐體和石英管之間的隔熱保溫，解決了以往用保溫棉存在的兩大問題：一是保溫棉長時間在高溫下出現(xiàn)粉化脫落從而影響工作腔體潔凈度，二是手動堵塞保溫棉不均勻，影響工作區(qū)溫度穩(wěn)定性和均勻性。本產(chǎn)品可長期使用在高溫下，不粉化，不變形，不硬化，不氧化，防震，防腐蝕。