PVD真空鍍膜技術(shù)知識(shí)問(wèn)答

時(shí)間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：76

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專(zhuān)注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 小型金屬濺射鍍膜機(jī)優(yōu)點(diǎn)

  ?? ? ? ? ? ? ?鄭科探小型濺射儀功能優(yōu)勢(shì)1、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，多樣品同時(shí)鍍膜時(shí)，鍍膜厚度比較均勻。2、預(yù)濺射擋板功能，剛開(kāi)始鍍膜的時(shí)候腔室里會(huì)有些雜質(zhì)，擋板可以保護(hù)樣品，提高薄膜質(zhì)量3、帶有水冷系統(tǒng)，可以長(zhǎng)時(shí)間濺射鍍膜，厚度可達(dá)1微米以上。4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個(gè)量級(jí)。針對(duì)某些

• PVD真空鍍膜技術(shù)知識(shí)問(wèn)答

  Q1: 什么是PVD? 真空電鍍加工真空鍍膜技術(shù)A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫(xiě)，中文意思是“物相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。?? ? 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司新研發(fā)一款小型蒸鍍儀KT-Z1650DM是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,

• 磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介

  磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是：在高真空的條件下，入射離子（Ar+）在電場(chǎng)的作用下轟擊靶材，使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動(dòng)能脫離靶材表面，沉積在基片表面形成薄膜。但是，電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用，產(chǎn)生漂移，因而導(dǎo)致傳濺射效率低，電

• 小型金屬濺射鍍膜機(jī)優(yōu)點(diǎn)

  1、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，多樣品同時(shí)鍍膜時(shí)，鍍膜厚度比較均勻。2、預(yù)濺射擋板功能，剛開(kāi)始鍍膜的時(shí)候腔室里會(huì)有些雜質(zhì)，擋板可以保護(hù)樣品，提高薄膜質(zhì)量3、帶有水冷系統(tǒng)，可以長(zhǎng)時(shí)間濺射鍍膜，厚度可達(dá)1微米以上。4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個(gè)量級(jí)。針對(duì)某些金屬較快能達(dá)到1-2納米每秒，5、不但可以電鏡制樣，還可以制作金屬電極。6、可擴(kuò)展膜厚監(jiān)測(cè)，監(jiān)測(cè)薄膜厚度。濺射儀使用需注1 靶材需要