KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

時間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：54

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  詞條說明

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  渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng)?PLD脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 可用來制備金屬和各種物質(zhì)薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統(tǒng)的真空度和加快抽空時間, 經(jīng)過伯東選用分子泵+分子泵組串聯(lián)組合的形式來提高系統(tǒng)的真空度. 快達(dá)到其使用要求.渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產(chǎn)的 COM

• 上海伯東美國 HVA 真空插板閥在半導(dǎo)體管道中的應(yīng)用

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  因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 矩形閥?Load-lock 典型應(yīng)用上海伯東某生產(chǎn)原生多晶矽料生產(chǎn)設(shè)備, 矽片加工設(shè)備, 晶體矽電池生產(chǎn)設(shè)備企業(yè), 使用美國?HVA 矩形閥用于真空機(jī)臺的 Load-lock工位, HVA 矩形閥安裝在 2X18 英寸規(guī)格內(nèi)的矽片生產(chǎn)線上, 起到輔助傳遞矽片, 隔離真空腔室的作用.矽片比較薄, 一般

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