CITE2023 |鵬城半導(dǎo)體攜熱絲CVD金剛石等全系列方案亮相，備受矚目

時(shí)間：2023-04-13作者：鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司瀏覽：260

鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設(shè)備,化學(xué)氣相沉積,金剛石涂層等

• 詞條

  詞條說明

• 等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備有哪些特點(diǎn)《臺(tái)風(fēng)資訊》

  等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學(xué)氣相沉積)，另一個(gè)是PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)，它們都是在20世紀(jì)70年代發(fā)展起來的鍍膜工藝。其特點(diǎn)是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態(tài)無機(jī)物膜;2、等離子體清洗基材，使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜，內(nèi)應(yīng)力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產(chǎn)生微裂紋;4、低溫成膜，溫度對(duì)基材沒什么影響，避免了

• 新一代半導(dǎo)體技術(shù)-真空鍍膜技術(shù)的現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢

  摘要：隨著可持續(xù)發(fā)展觀的深入普及和社會(huì)經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展，經(jīng)濟(jì)與環(huán)保協(xié)同發(fā)展成為當(dāng)下企業(yè)發(fā)展和科技創(chuàng)新的主要趨勢。傳統(tǒng)的通電鍍膜技術(shù)會(huì)產(chǎn)生較大的污染，且鍍膜質(zhì)量不高，經(jīng)濟(jì)效益低下，已逐漸退出歷史舞臺(tái)，取而代之的是技術(shù)較加**、鍍膜質(zhì)量較加優(yōu)秀的真空鍍膜技術(shù)。真空鍍膜技術(shù)始于20世紀(jì)30年代，當(dāng)前真空鍍膜技術(shù)已從實(shí)驗(yàn)室走向了工廠，實(shí)現(xiàn)了大規(guī)模生產(chǎn)，在光伏、建筑、裝飾、通訊、照明等工業(yè)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用

• 真空鍍膜行業(yè)發(fā)展趨勢，低耗能無污染先進(jìn)技術(shù)

  1、真空鍍膜行業(yè)技術(shù)水平及特點(diǎn)多功能磁控濺射儀（高真空磁控濺射鍍膜機(jī)）-鵬城半導(dǎo)體真空鍍膜是表面處理技術(shù)的一項(xiàng)分支，是指為了減少雜質(zhì)的干擾，在高度真空環(huán)境下，通過物理或化學(xué)手段，將金屬、非金屬或化合物材料（膜材）轉(zhuǎn)換成氣態(tài)或等離子態(tài)，并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或**材料等固體材質(zhì)（簡稱基材、基板或基片）表面形成薄膜的過程。利用真空鍍膜技術(shù)鍍制薄膜后，可使材料表面獲得新的復(fù)合性能并實(shí)現(xiàn)新型的工程

• 半導(dǎo)體制造及先進(jìn)封裝持續(xù)升溫

  得益于政策的有力支持、行業(yè)周期性的變化、創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)的增長以及國產(chǎn)替代的加速推進(jìn)，從IC設(shè)計(jì)到晶圓制造、封裝測試，再到設(shè)備材料等多個(gè)細(xì)分領(lǐng)域，國產(chǎn)化率實(shí)現(xiàn)了顯著提升，標(biāo)志著我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正朝著自主可控的方向穩(wěn)步邁進(jìn)。半導(dǎo)體材料國產(chǎn)化率仍在進(jìn)一步提升2025年，**半導(dǎo)體產(chǎn)能的年增長率將達(dá)到6.6%，每月3360萬片晶圓，而主流制程產(chǎn)能將實(shí)現(xiàn)6%的增長，達(dá)到每月1500萬片。相較于**制程，成熟制程的工