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時(shí)間：2022-09-03作者：醴陵市利吉升新材料有限公司瀏覽：500

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• 詞條

  詞條說明

• 靶材的制作方法、分類及應(yīng)用

  現(xiàn)階段靶材的制取關(guān)鍵有鑄造法和粉未冶金法。鑄造法：將一定成份配制的合金原材料熔煉，再將合金飽和溶液澆筑于模貝中，產(chǎn)生澆鑄，最終經(jīng)機(jī)械加工制造做成靶材，鑄造法在真空泵中熔煉、鑄造。常見的熔煉方式 有真空泵磁感應(yīng)熔煉、真空泵電孤熔煉和真空電子負(fù)電子熔煉等，其特點(diǎn)是靶材殘?jiān)浚ㄓ绕涫瞧w殘?jiān)浚┑停鄬γ芏雀?，可進(jìn)口替代；缺陷是對溶點(diǎn)和相對密度相距過大的二種或兩種以上金屬材料，一般熔煉法難以獲得成份

• 釕靶材的產(chǎn)品優(yōu)勢

  產(chǎn)品優(yōu)勢：1、耐化學(xué)腐蝕氧化鋯、氧化鋁陶瓷有很強(qiáng)的耐化學(xué)腐蝕的特性!2、耐摔性首家具備這個(gè)技術(shù), 陶瓷棒從高空跌落完好無損,耐摔!3、超耐磨氧化鋯、氧化鋁陶瓷結(jié)構(gòu)產(chǎn)品具有很強(qiáng)的耐磨性!4、耐高溫氧化鋯、氧化鋁陶瓷可耐高溫1600度以上!5、防靜電氧化鋯、氧化鋁陶瓷為防靜電材料, 適用無塵區(qū)域!6、防火性氧化鋯、氧化鋁陶瓷對燃燒的火焰有極強(qiáng)防護(hù)能力!

• 淺談半導(dǎo)體靶材

  靶材，特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過在PVD設(shè)備中用離子對目標(biāo)物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱

• 鈀靶材廠家?guī)懔私獍胁氖裁词前胁?？靶材是制備薄膜的主要材料之一，比如鍍膜靶材，通過磁控濺射，在適當(dāng)?shù)墓に嚄l件下，濺射在基體上形成各種所需功能薄膜的濺射源。當(dāng)然還有其它鍍膜工藝，比如真空離子鍍膜、蒸發(fā)鍍膜等等電鍍工藝。根據(jù)所需求工藝應(yīng)用的不同，對靶材的種類選擇也不同。所以說得簡單一點(diǎn)，靶材就是真空電鍍材料爐里的靶，你也可以簡單理解為電鍍材料的一種。靶材就材質(zhì)分類而言分為三大類：1. 金屬靶材 2.陶

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