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詞條說明
硅片切割液按成分的分類將硅片切割液按照成分來分類,可分為兩大類:油性硅片切割液和水性硅片切割液。第一類:油性硅片切割液這類切割液是以礦物油為主要成分,其中含有礦物油、防腐蝕劑、抗擠壓劑等物質(zhì)。由于本身具有易燃性質(zhì),對環(huán)境污染較大,在清洗硅片時需要使用含氟的烷烴溶劑,所以容易導(dǎo)致起泡。第二類:水性硅片切割液這類切割液是可以溶于水或者被水分散,清洗硅片時用水即可,雖然不用**溶劑,對人體和環(huán)境無損害,
激光具有單色性好、方向性強、亮度高等特點?,F(xiàn)已發(fā)現(xiàn)的激光工作物質(zhì)有幾千種,波長范圍從軟X射線到遠紅外。?激光技術(shù)的**是激光器,激光器的種類很多,可按工作物質(zhì)、激勵方式、運轉(zhuǎn)方式、工作波長等不同方法分類。根據(jù)不同的使用要求,采取一些專門的技術(shù)提高輸出激光的光束質(zhì)量和單項技術(shù)指標(biāo),比較廣泛應(yīng)用的單元技術(shù)有共振腔設(shè)計與選模、倍頻、調(diào)諧、Q開關(guān)、鎖模、穩(wěn)頻和放大技術(shù)等。為了滿足軍事應(yīng)用的需要,
介紹半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴格清洗。微量污染也會導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì),包括**物和無機物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài),有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。**污染包括光刻膠、**溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等,嚴重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo);堿金屬如鈉等,引起嚴重漏電;顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌
1.零件分析 (1)零件材料分析。該零件材料為DT4E,屬于硬度較低、剛度較差的材料。DT4E材料在切削過程中有如下特點:材料質(zhì)地較軟、粘性較大;切削溫度高;切屑不易折斷,易粘結(jié);刀具易磨損。 (2)零件結(jié)構(gòu)分析。此零件是液壓閥中的重要的功能零件,孔系表面要有高的硬度、好的耐磨性、強的耐腐蝕性、高的表面質(zhì)量,因此對零件的孔系表面進行鍍鎳處理。φ4.5H7、φ4.7H7尺寸為鍍鎳后尺寸,因要求表面
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